卒業生と卒論・修論内容
M2 今 高信 プラズマ浸漬格子状ターゲットスパッタリング法による超撥水酸化アルミニウム薄膜作製と表面改質に関する研究
M2 内野 元稀 イオンビーム照射を用いたSiC表面分解法によるグラフェン形成の評価に関する研究
M2 川田 哲也 炭素系新材料による電磁波吸収素材の開発
B4 木村 亮太 イオンビーム照射を用いたSiC表面分解法によるグラフェン形成のラマン分光測定
B4 松並 陵 プラズマ浸漬格子状ターゲットスパッタリング法を用いた薄膜作製とSEM観察
B4 溝上 慎吾 SiC炭素複合材料の製作と電磁波吸収特性評価
B4 山ア 悠生 プラズマ浸漬格子状ターゲットスパッタリング法を用いた薄膜作製と撥水性測定
R05年度