卒業生と卒論・修論内容
M2 松尾 航平 有機分子を吸着したSi及びSiC表面の電子状態抽出に関する研究
M2 山ア 誉之 イオンビーム照射によるSiC基板上のグラフェン形成初期過程に関する研究
M2 梅田 恭誠 炭素材料表面上に吸着した有機分子の電子状態解析
M2 倉橋 渉太 走査トンネル顕微鏡を用いたSi表面上の銅フタロシアニン薄膜形成初期過程に関する研究
M2 縄田 悠人 メタンプラズマCVD法を用いたSi基板上のダイヤモンド薄膜合成に関する研究
M2 濱田 聖 SiC表面分解法における熱処理時間とFe蒸着がカーボンナノチューブ成長に与える影響
M2 元川 陽介 イオンビーム照射したSiC基板上のグラフェン形成初期過程に関する研究
B4 徳永 浩之 格子状ターゲットを用いたプラズマ浸漬イオンスパッタ法によるAl薄膜の合成
B4 船曳 諒 SiC表面分解法によるカーボンナノチューブ生成制御に関する研究
B4 佐々木 徹 DCメタンプラズマCVD法によるSi基板上に形成されるダイヤモンド粒子の形態観察
B4 滝川 塁 走査トンネル顕微鏡を用いた半導体表面上における銅フタロシアニン薄膜形成に関する研究
B4 山田 雄也 SiC表面分解法による6H-SiC(0001)基板上のグラフェン形成初期過程に関する研究
H30年度