卒業生と卒論・修論内容
M2 伊藤 剛士 Biナノワイヤ形成Si(100)表面における金属原子吸着・脱離過程に関する研究
M2 小野 拓磨 走査トンネル顕微鏡を用いた6H-SiC(000-1)表面再構成過程の研究
M2 児玉 諭彦 低速イオン散乱分光法によるSi(100)及びNi(110)表面上の金属薄膜成長の研究
M2 田中 博史 SiC(0001)再構成表面構造の原子スケール解析
B4 上田 大志 6H-SiC(000-1)再構成表面への水素吸着過程のSTM観察
B4 木村 圭佑 Si(100)表面への水素吸着・脱離過程の原子スケール観察
B4 上代 祐蔵 STM・LEEDによる6H-SiC(0001)再構成表面構造に関する研究
B4 中村 功 STMによるBiナノワイヤ形成Si(100)表面へのAg原子吸着過程の研究
B4 藤田 朋彦 SiC表面上でのカーボンナノチューブ成長初期過程に関する研究
B4 松島 恒幸 イオン散乱分光法及び低速電子線回折による酸素吸着Ni(110)面の構造解析
H16年度