九州・沖縄・山口の大学や企業で活躍する薄膜・表面関連分野の研究者が、互いの研究成果を交換し合い、薄膜・表面における種々の新奇な現象とその応用について幅広く議論する場を持つことは、これからの材料やデバイスの開発および関連する基礎技術の発展に極めて重要です。また、これは九州・沖縄・山口地方の薄膜・表面関連分野の研究活性化のみならず、大学院生及び若手研究者に対する教育事業の一環としても極めて有意義です。そこで、薄膜・表面に関連した分野、半導体表面、金属表面、磁性薄膜、有機分子薄膜、結晶成長、超微細加工、超格子デバイス、ナノ微粒子、プラズマ応用薄膜成長、放射光分析、炭素系新材料、ナノ応用デバイス、不均一触媒、摩擦応用、真空技術・ソフトマテリアルなどを対象に、下記の要領で研究会を開催いたします。 皆さまのご参加をお待ちしております。
・開催日時： 2018年6月9日（土） 9:50-18:10
・場 所： 九州工業大学戸畑キャンパス 教育研究5号棟2階 5-2A講義室
地図の⑦の建物です。
（福岡県北九州市戸畑区仙水町1-1:JR鹿児島本線九州工大前駅より徒歩15分）
車での入構可能です。西門から入り、守衛さんの指示に従ってください。
・特別講演：
大村一郎教授（九州工業大学大学院生命体工学研究科）
「パワーデバイス開発と関連技術」
・一般講演： 25件程度
一般講演を、表面・真空・薄膜・ソフトマテリアル及びその周辺の分野から広く募
集いたしますので、九州のみならず全国からの活発なご投稿をお願いいたします。
・講演申込締切：5月24日（木）
・予稿集原稿提出締切：5月31日（木）
・講演申込方法
締切期日までに以下の事項を明記して下記メール送付先にお送りください。
・研究題目
・著者名（登壇者氏名の前に○印）
・所属・勤務先略称（連名者の所属・勤務先が異なる場合は、著者名、
所属・勤務先ともに半角英字A,B,Cを使用して区別する。）
・研究キーワード（3個程度）
・学生講演奨励賞に応募する場合は、研究キーワードの後に
「学生講演奨励賞に応募します」と必ず記入してください。
学年もお知らせください。
・予稿集原稿の書き方サンプル(word) サンプル(pdf)
プログラム
・学生講演奨励賞： 規程
・参加費： 無料
・交流会： 18:30より ルージュブラン（戸畑キャンパス内）
・主催： 日本表面真空学会九州支部
・運営： 内藤正路 (九州工業大学）
碇 智徳（宇部高専）
・講演申し込み、予稿提出先： 内藤正路（九州工業大学大学院）
TEL:093-884-3266
E-mail：naitoh
ele.kyutech.ac.jp
